第一六六七章 浸没式光刻机面世(1/4)

    第一六六七章 浸没式光刻机面世

    “恭喜邓院长、钱所长，我代表京城半导体集团奖励浸没式光刻机研发团队1000万元，所有人晋升1级工资，推荐钱所长申请工程院院士。”

    啪啪……

    6月17日，孙健在朱俊松、喻学强、魏建国、钱国培、欧阳明、陈伟长、夏季常等人的陪同下，来到京城半导体集团（BSEC）光刻机研究院会议室，笑容满面的会见院长邓国辉和所长钱富强领导的浸没式光刻机研发团队的147名人员。

    众人喜笑颜开，等待这一天已经4年了。

    原常务副总经理李昌杰担任PGCA半导体公司中方总经理后，副总经理钱国培担任常务副总经理。

    BSEC是淘宝控股公司控股的高科技上市公司，淘宝控股（京城）公司总经理朱俊松和副总经理喻学强担任BSEC的董事。

    193nm波长的世界性光学难题困扰了光刻机行业近10年，为了攻克这道难题，GCA选择了技术最复杂的EUV(13.5nm)技术路线，同时也没有放弃157nm激光器路线；Nikon、Canon、SVG和ASML选择157nm激光器路线。

    1999年7月，BSEC研究院院长邓国辉院士和光刻机光学研究所所长钱富强研究员率领光源研究所的147名研发人员，在孙健的“点拨”下，经过近3年的潜心研究，终于研制成功浸没式光刻系统技术，ArF激光器发射的193nm光源通过纯净水的折射，得到了波长134nm的光源，解决了业界遇到的193nm波长的世界级难题，并生产了一台65nm制程工艺的浸没式试验机，避免刺激美国，秘而不宣！

    孙健当时告诉大家，因试验机所用的光学系统是委托CarlZeiss AG生产的，没有自主知识产权，因瓦森纳协定的限制，极有可能被封锁，等自己研制的光学系统符合要求后，再申请公司发明专利。

    当时只能委屈钱富强和147名研发人员。

    “多谢董事长！”

    一晃10年过去，钱富强已经55岁，两鬓斑白